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Título

High ferroelectric polarization in c-oriented BaTiO3 epitaxial thin films on SrTiO3/Si(001)

AutorScigaj, Mateusz CSIC ORCID; Chao, C.H.; Gázquez, Jaume CSIC ORCID; Fina, Ignasi CSIC ORCID CVN ; Herranz, Gervasi CSIC ORCID; Fontcuberta, Josep CSIC ORCID; Sánchez Barrera, Florencio CSIC ORCID
Palabras claveEpitaxy
Buffer layers
Ferroelectric thin films
Polarization
X-ray diffraction
Fecha de publicación19-sep-2016
EditorAmerican Institute of Physics
CitaciónApplied Physics Letters 109(12): 122903 (2016)
ResumenThe integration of epitaxial BaTiO3 films on silicon, combining c-orientation, surface flatness, and high ferroelectric polarization is of main interest towards its use in memory devices. This combination of properties has been only achieved so far by using yttria-stabilized zirconia buffer layers. Here, the all-perovskite BaTiO3/LaNiO3/SrTiO3 heterostructure is grown monolithically on Si(001). The BaTiO3 films are epitaxial and c-oriented and present low surface roughness and high remnant ferroelectric polarization around 6 μC/cm2. This result paves the way towards the fabrication of lead-free BaTiO3 ferroelectric memories on silicon platforms.
DescripciónScigaj, M. et al.
Versión del editorhttp://dx.doi.org/10.1063/1.4962836
URIhttp://hdl.handle.net/10261/137196
DOI10.1063/1.4962836
ISSN0003-6951
Aparece en las colecciones: (ICMAB) Artículos




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