Εξειδίκευση τύπου :	Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος:	Etch resistance enhancement and absorbance optimization with polyaromatic compounds for the design of 193 nm photoresists
Δημιουργός/Συγγραφέας:	Argitis, P. Vasilopoulou, M. A. Gogolides, E. Tegou, E. Hatzakis, M. [EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos
Εκδότης:	Elsevier BV
Ημερομηνία:	1998
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISSN:	0167-9317
DOI:	10.1016/s0167-9317(98)00082-3
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Microelectronic Engineering
Τόμος/Κεφάλαιο:	42
Σελίδες:	355-358
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Ηλεκτρονική διεύθυνση περιοδικού (link) :	http://www.sciencedirect.com/science/journal/01679317
Σημειώσεις:	Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Φωτονική για Νανοεφαρμογές Ερευνητικη ομάδα ΕΙΕ: Photonics for Nanoapplications
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο