Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem

Loading...
Thumbnail Image
Date
ORCID
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
This work deals with technological process of structures creating by using of electron beam lithography. The main focus of the work is contrast curves of PMMA resist determination for electron beam lithography system Vistec EBPG 5000+ ES. Contrast curves are determined for different developers, developing times and the depths of resist. Sensitivity and the contrast of resist are determined from these contrast curves for each resist-developer system. Sensitivity curves are applied to the proximity effect correction on real structures, specifically the periodic diffraction gratings and then they are evaluated.
Description
Citation
ŠUĽAN, D. Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Radimír Vrba, CSc. (předseda) Ing. Petr Kosina, Ph.D. (místopředseda) Ing. Jiří Starý, Ph.D. (člen) Ing. Jana Pekárková, Ph.D. (člen) Ing. Jan Prášek, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2014-06-17
Defence
Student seznámil státní zkušební komisi s řešením své bakalářské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. Dále student odpovídal na otázky komise, zejména ohledně měření na elektronovém litografu.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení
DOI
Collections
Citace PRO