The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures

0105670 - UJF-V 20043243 RIV SI eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Macková, Anna - Peřina, Vratislav - Havránek, Vladimír - Špirková, J. - Třešňáková, P. - Salavcová, L.
The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures.
[Komplementární studie Er incorporovaného ve skleněných vrstvách určených pro optické vlnovodné struktury metodami RBS a PIXE.]
Proceedings of the International Conference on Particle Induced X-Ray Emission and its Analytical Applications, PIXE 2004 /10./. Portoroz: J. Stefan Institute, 2004, s. 852.1-852.3. ISBN 961-6303-62-7.
[International Conference on Particle Induced X-Ray Emission and its Analytical Applications, PIXE 2004 /10./. Portoroz (SI), 04.06.2004-08.06.2004]
Grant CEP: GA AV ČR KSK1010104
Klíčová slova: PIXE * emission * analytical
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures

Jaderné analytické metody zpětného odrazu iontů RBS a rentgenové fluorescence PIXE byly použity pro studium hloubkových profilů Er zakomponovaných do skleněných struktur metodou nízkoteplotní difůze iniciované elektrickým polem. RBS umožňuje stanovit hloubkový profil koncentrace Er s hloubkovým rozlišením 10nm a velkou citlivostí, je však omezena pozadím pocházejícím ze substrátu, proto může stanovit hloubkový profil pouze do cca 1 mikrometru. PIXE je metoda, která určuje integrální množství Er, a proto srovnáním těchto dvou metod můžeme přesněji odhadnout skutečnou hloubku, do které lze danou metodou difundovat Er. Množství Er ve skleněném substrátu je dáno difůzním časem, použitým proudem a váhovým procentem Er v tavenině z níž dochází k difůzi a v nepolední řadě následnou tepelnou úpravou vzorků.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0012898