Počet záznamů: 1
IR laser photosensitized decomposition of trimethyl(2-propynyloxy)silane for chemical vapour deposition of polysiloxanes
- 1.0165271 - UCHP-M 980006 RIV JP eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Morita, H. - Urbanová, Markéta - Pola, Josef
IR laser photosensitized decomposition of trimethyl(2-propynyloxy)silane for chemical vapour deposition of polysiloxanes.
Japanese Chemical Society Meeting. Kyoto, 1998, s. 403.
[Japanese Chemical Society Meeting. Kyoto (JP), 27.03.1998-30.03.1998]
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0062448
Počet záznamů: 1