Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií

0205619 - UPT-D 20030001 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František
Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií.
[Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 48, č. 5 (2003), s. 138 - 141. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA AV ČR IBS2065014
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: diffractive optical elements * multilevel phase DOE * electron lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

V této publikaci jsou uvedeny výsledky prací týkajících se přípravy binárních a víceúrovňových fázových optických prvků (PDOE) užitím technologie el ektronové litografie. Technologie elektronové litografie byla použita přím o pro modifikaci reliéfů tenkých vrstev rezistu PMMA tak, aby vytvořená re liéfní struktura v PMMA byla opticky funkční pro daný fázový optický eleme nt. V práci jsou diskutovány problémy související s možnostmi elektronové litografie vytvářet definované 3D reliéfní struktury v tenkých vrstvách rezistu PMMA.

This paper presents the results of a research concerning the fabrication of binary and multi-level phase-only diffractive optical elements (PDOE) us ing the technology of electron beam lithography. The electron beam lithography technology was used directly for modification of the reliefs of thin layers of PMMA resist such that the relief structure created in PMMA be optically functional for the given phase-only optical element. The paper inc ludes discussion of the issues pertaining to the capabilities of electron beam lithography to create defined 3D relief structures in thin layers of PMMA resist.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101232