Applications of intense ultra-short XUV pulses to solid state physics: time-resolved luminescence spectroscopy and radiation damage studies

0086338 - FZÚ 2008 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
De Grazia, M. - Merdji, H. - Carré, B. - Gaudin, J. - Geoffroy, G. - Guizard, S. - Fedorov, N. - Belsky, A. - Martin, P. - Kirm, M. - Babin, V. - Feldbach, E. - Vielhauer, S. - Nagirnyi, V. - Vassil´ev, A. - Krejčí, F. - Kuba, J. - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Ledinský, Martin - Juha, Libor
Applications of intense ultra-short XUV pulses to solid state physics: time-resolved luminescence spectroscopy and radiation damage studies.
[Využití intenzivních ultra-krátkých pulzů ve fyzice pevných látek: časově-rozlišená luminiscenční spektroskopie a výzkum radiačního poškození.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics. Bellingham: SPIE, 2007 - (Juha, L.; Sobierajski, R.; Wabnitz, H.), s. 1-10. Proceedings of SPIE, 6586. ISBN 978-0-8194-6714-0.
[International Conference on Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics. Prague (CZ), 18.04.2007-19.04.2007]
Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA AV ČR KAN300100702
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523; CEZ:AV0Z40400503
Klíčová slova: radiation damage * luminescence * XUV radiation * high-order harmonics * PMMA * ionic crystals
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

High-surface-quality amorphous carbon (a-C) optical coatings with a thickness of 45 nm, deposited by magnetron sputtering on a silicon substrate were irradiated by the focused beam of capillary-discharge Ne-like Ar XUV laser (CDL). Investigating consequences of the multiple-shot exposure it has been found that an accumulation of 10, 20 and 40 shots at a fluence of 0.5 J/cm², i.e., below the single-shot damage threshold, causes irreversible changes of a-C thin layer which can be registered by both the AFM and the DIC microscopy

Amorfní uhlíková (a-C) optická pokrytí vysoké kvality tloušťky 45 nm deponovaná magnetronovým naprašováním na křemíkových substrátech byla ozářena fokusovaným svazkem kapilárním výbojovým XUV laserem. Zjistili jsme, že expozice 10, 20 a 40 pulzy vedla k poškození povrchu při fluenci 0.5 J/cm², tedy bezpečně pod prahem poškození jedním impulzem
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0148628