Počet záznamů: 1
Structure of mixed-phase Si films studied by C-AFM and X-TEM
- 1.0087819 - FZÚ 2008 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Mates, Tomáš - Bronsveld, P.C.P. - Fejfar, Antonín - Rezek, Bohuslav - Kočka, Jan - Rath, J.K. - Schropp, R.E.I.
Structure of mixed-phase Si films studied by C-AFM and X-TEM.
[Struktura smíšené fáze tenkých křemíkových vrstev studovaná pomocí vodivostního AFM a průřezového TEM.]
Journal of Physics: Conference Series. Roč. 61, - (2007), s. 790-794. ISSN 1742-6588. E-ISSN 1742-6596
Grant CEP: GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC06040; GA MŽP(CZ) SN/3/172/05; GA AV ČR IAA1010316; GA AV ČR IAA1010413; GA ČR(CZ) GD202/05/H003
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: microcrystalline silicon * conductive AFM * cross-sectional TEM
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Thin Si films prepared at low temperature and containing microcrystalline grains in amorphous tissue were studied by two complementary microscopy techniques - conductive AFM and cross-sectional TEM.
Tenké křemíkové vrstvy připravené za nízkých teplot a obsahující mikrokrystalická zrna v amorfní fázi byly studovány pomocí dvou doplňujících se mikroskopických technik - vodivostního AFM a průřezového TEM.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0149563
Počet záznamů: 1