Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou

0433910 - ÚPT 2015 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou.
[Scanning Probe Nanolithography Methods.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 10 (2014), s. 937-941. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Klíčová slova: scanning probe lithography * local anodic oxidation * nanoscratching * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.272, rok: 2014

Moderní průmysl a technologie neustále zvyšuje svoje požadavky na vytváření drobných struktur, jejichž rozměry jsou v nanometrovém rozlišení. Technika mikroskopie v blízkém poli, tedy i AFM (atomic force microscopy - mikroskopie atomárních sil) prodělala během posledních dvou desetiletí velký rozvoj, co se týká měření, ale i opracováním povrchů a vytváření různých nanostruktur. Byly vyvinuty různé techniky využívající zařízení AFM k přípravě struktur v nano rozměrech. Tyto techniky jsou označovány jako SPL (scanning probe lithography - litografie rastrující sondou) a jsou používány k vytváření nanostruktur a nanozařízení v různých materiálech (kovy, oxidy, polovodiče, ale také polymerní materiály). Lze jimi připravovat různé tvary od jednotlivých bodů, čar a mřížek až po 3D struktury s rozmněry od desítek až po stovky nanometrů. Takto připravené struktury pak mohou vykazovat zcela nové vlastnosti (např. větší katalytickou aktivitu) díky velkému poměru plochy k objemu těchto struktur. Zápis struktur v těchto rozměrech umožňuje dosáhnout vysoké hodnoty poměru jejich hustoty na jednotkovou plochu povrchu, čehož se dá využít k větší kapacitě uchovaných dat nebo ke zvětšení počtu senzorů na stejně velké ploše (např. v biomedicínských aplikacích).

AFM (atomic force microscopy) nanolithography can be used for preparation of nanostructures in various fields such as nanodevices, nanoantenas and biosensors. Several methods of AFM nanolithography (local anodic, oxidation, electron resist exposure, dip pen nanolithography, and nanoscratching), their advantages and essential properties are described.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238098