Počet záznamů: 1
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury
- 1.0468373 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Oulehla, Jindřich - Šerý, Mojmír
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury.
[SMV-2016-03: Precise relief structures.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2016. 10 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik.
Research and development in the field of precise relief structures using electron beam lithography and other ultra-precise micro manufacturing techniques.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266242
Počet záznamů: 1