ECWR plazma zdroj

0552141 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ECWR plazma zdroj.
[ECWR plasma source.]
Interní kód: FVMF3/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ECWR zdroje: 6 mm Vnitřní průměr vstupní části ECWR zdroje: 4 mm Vnější průměr pracovní části ECWR zdroje: 25 mm Vnitřní průměr pracovní části ECWR zdroje: 23 mm
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: electron cyclotron wave resonance * minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)

V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali plazmový zdroj založený na generaci elektronové cyklotronové vlnové rezonance (ve zkratce ECWR), který je optimalizovaný pro použití v Minimal Fab systému. Měření generovaného plazmatu prokázalo, že ECWR zdroj plazmatu je schopen generovat nízkoteplotní plazma v intervalu tlaků od 0,05 Pa až po 0,1 Pa. Dále ECWR zdroj je možné provozovat také v čistém argonu, dusíku, kyslíku nebo jejich směsích. ECWR zdroj plazmatu se vyznačuje vysokým stupněm ionizace plynu.


Within the TAČR project, we developed and implemented a plasma source based on electron cyclotron wave resonance (ECWR) that is optimised for use in the Minimal Fab system. Low-temperature plasma diagnostics of the generated plasma proved that the ECWR plasma source is able to generate low-temperature plasma in the pressure range from 0.05 Pa to 0,1 Pa. Furthermore, the ECWR source can also be operated in pure argon, nitrogen, oxygen gas or mixtures thereof. The ECWR plasma source is characterised by the high degree of gas ionisation.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327313