Incorporación del estroncio para mejorar la osteointegración de los implantes de titanio
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Tipus de documentProjecte/Treball Final de Carrera
Data2015-02
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Abstract
El objetivo de este estudio es generar una nueva superficie de implante que contenga estroncio para la administración local de los iones de estroncio (Sr2+), que tienen el potencial de mejorar la osteointegración de los implantes metálicos de las prótesis quirúrgicas e implantes dentales.
El anodizado plasma químico es una técnica útil para la modificación química y topográfica de las superficies de titanio, mediante la creación de una capa de óxido de un espesor significativo sobre el titanio a través de las descargas eléctricas anódicas en el proceso.
En este estudio fueron generadas capas de óxido rugosas con un alto contenido en estroncio. Según varias publicaciones, este elemento tiene el potencial de mejorar la osteointegración gracias a la presencia de los iones (Sr2+) en la superficie. La rugosidad superficial, a su vez, mejora el anclaje mecánico y la adhesión celular.
El anodizado plasma químico fue realizado en muestras de titanio sumergidas en un electrolito que contenía estroncio en forma de acetato de estroncio (SrC4H6O4). Los parámetros del proceso se optimizaron a través de un estudio estadístico: el diseño experimental (DOE). Las muestras de Ti y Ti anodizado por plasma químico sin estroncio fueron utilizadas como control (referencia). Las superficies fueron analizadas mediante interferómetria óptica, microscopia electrónica de barrido, ángulo de contacto y espectroscopiá fotoelectrónica de rayos X. La rugosidad, la hidrofilicidad, el espesor, la composición química y naturaleza de los elementos fueron determinados. Un test final de diferenciación osteoblástica y otro de proliferación celular fueron realizados para conocer la capacidad de osteointegración del nuevo material desarrollado.
Los análisis de las superficies elaboradas revelaron una cantidad total de estroncio cercana al 30 wt%. Se trata de la cantidad más alta conseguida si se compara con otros métodos. La capa elaborada tiene un espesor aproximado de 12 μm y una rugosidad de 2,31 μm, lo cual es óptimo para una adhesión osteoblástica. Los análisis del DOE mostraron que el tipo de base (A) en el electrolito, la intensidad de corriente (B) y el tiempo de anodización (C), así como las combinaciones AB y BC tienen un papel importante en la cantidad final de estroncio en la capa de óxido obtenida por nuestro método. Finalmente, la proliferación de osteoblastos humanos y diferenciación celular no mostraron diferencias estadísticamente significativas.
MatèriesImplants, Artificial – Materials, Strontium -- Testing, Titanium -- Testing, Osseointegration, Implants artificials -- Materials, Estronci -- Proves, Titani -- Proves, Osseointegració
TitulacióENGINYERIA DE MATERIALS (TITULACIÓ CONJUNTA AMB LA UB) (Pla 2003)
Fitxers | Descripció | Mida | Format | Visualitza |
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Informe - Sonny SANCHEZ.pdf | Memoria | 2,606Mb | Visualitza/Obre |