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タイトル: Wet Etching of beta-Ga2O3 Substrates
著者: Oshima, Takayoshi
Okuno, Takeya
Arai, Naoki
Kobayashi, Yasushi
Fujita, Shizuo  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0001-6384-6693 (unconfirmed)
発行日: 2009
出版者: INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
巻: 48
号: 4
論文番号: 040208
URI: http://hdl.handle.net/2433/109005
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.48.040208
リンク: Web of Science
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