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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| ykogk03766.pdf | Abstract_要旨 | 166.56 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| dkogk03766.pdf | Dissertation_全文 | 8.46 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Atomic-Scale Analysis of Plasma-Surface Interactions and Formation Mechanisms of Profile Anomalies and Surface Roughness during Plasma Etching of Silicon |
| その他のタイトル: | シリコンエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用と形状異常および表面ラフネス形成機構の原子スケール解析 |
| 著者: | Tsuda, Hirotaka |
| 著者名の別形: | 津田, 博隆 |
| キーワード: | 形状進展シミュレーション セルリムーバル法 分子動力学法 形状異常 表面ラフネス リップル構造 |
| 発行日: | 23-May-2013 |
| 出版者: | 京都大学 (Kyoto University) |
| 学位授与大学: | 京都大学 |
| 学位の種類: | 新制・課程博士 |
| 取得分野: | 博士(工学) |
| 報告番号: | 甲第17787号 |
| 学位記番号: | 工博第3766号 |
| 学位授与年月日: | 2013-05-23 |
| 請求記号: | 新制||工||1576(附属図書館) |
| 整理番号: | 30594 |
| 研究科・専攻: | 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 |
| 論文調査委員: | (主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生 |
| 学位授与の要件: | 学位規則第4条第1項該当 |
| DOI: | 10.14989/doctor.k17787 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/179356 |
| 出現コレクション: | 090 博士(工学) |
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