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タイトル: 4H-and 6H-SiC MOSFETs fabricated on sloped sidewalls formed by molten KOH etching
著者: Wahab, Q
Kosugi, H
Yano, H
Hallin, C
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Matsunami, H
キーワード: anisotropy
channel mobility
KOH etching
MOSFETs
発行日: 2002
出版者: TRANS TECH PUBLICATIONS LTD
誌名: SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2001, PTS 1 AND 2, PROCEEDINGS
巻: 389-3
開始ページ: 1215
終了ページ: 1218
URI: http://hdl.handle.net/2433/8905
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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