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研究生:邱櫳平
研究生(外文):Chiu, Lung-Ping
論文名稱:介電層後處理閘堆疊對鰭式電晶體與鍺金氧半元件電特性之影響研究
論文名稱(外文):Effects of Post Dielectric Treatment in Gate Stack on Electrical Characteristics of FinFET and Ge MOS Devices
指導教授:張廖貴術
指導教授(外文):Chang Liao, Kuei-Shu
口試委員:趙天生、李耀仁
口試委員(外文):Chao, Tien-Sheng、Li, Yao-Jen
口試日期:2021-08-12
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:工程與系統科學系
學門:工程學門
學類:核子工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2021
畢業學年度:109
語文別:中文
論文頁數:121
中文關鍵詞:元件、製程、介面、介電層、鍺
外文關鍵詞:device、interface、dielectric、Germanium、process
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