Orientador: Jaime Frejlich

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: É estudado um processo de modulação de índice de refração numa fotorresina negativa comercial (KMR-747), utilizada convencionalmente como material de registro sob forma de modulação na espessura geométrica. Esta modulação de índice, que não necessita de revelação posterior, permite a...

Resumo: É estudado um processo de modulação de índice de refração numa fotorresina negativa comercial (KMR-747), utilizada convencionalmente como material de registro sob forma de modulação na espessura geométrica. Esta modulação de índice, que não necessita de revelação posterior, permite a utilização desta fotorresina como material de registro em tempo real, isto é, onde a observação da gravação pode ser feita simultaneamente ao registro; no modo de utilização usual isto não é possível, pois é exigida uma revelação química após a exposição luminosa. Foi feita a descrição da evolução temporal desta modulação de índice, e da influência de parâmetros como temperatura e freqüência espacial do sinal registrado na velocidade desta evolução. Para a execução dos objetivos acima, foram desenvolvidos sistemas para a produção de filmes, assim como para sua caracterização: determinação do índice de refração, coeficiente de absorção, espessura e homogeneidade; foi feita também uma montagem experimental, que nos permite medir variações menores que 10-3 mm no caminho óptico de um filme fino transparente

Abstract: We study an index of refraction modulation process in a commercial negative photoresist. Through this process, which need no chemical development, the photoresist can be used as a real time optical recording material. We describe the temporal evolution of the process and the influence of...

Abstract: We study an index of refraction modulation process in a commercial negative photoresist. Through this process, which need no chemical development, the photoresist can be used as a real time optical recording material. We describe the temporal evolution of the process and the influence of the temperature and the spatial frequency of the recorded signal on its velocity. For these purposes we have developed systems and methods to produce and characterize photoresist films. An experimental set-up, that allows the measurement of changes of less than 10-3 mm in the optical pathlengh of a thin transparent film, has been developed