Full Text

• S. M. Rossnagel and J. Hopwood, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 449 (1994). jvb JVTBD9 0734-211X
• S. M. Rossnagel and J. Hopwood, Appl. Phys. Lett. 63, 3285 (1993). apl APPLAB 0003-6951
• M. Yamashita, Y. Setsuhara, S. Miyake, M. Kumagai, T. Shoji, J. Musil, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 4291 (1999). jjb JAPNDE 0021-4922
• K. Nakamura, Y. Kuwashita, H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1686 (1995). jjc JAPLD8 0021-4922
• S. M. Rossnagel, Thin Solid Films 263, 1 (1995). tsf THSFAP 0040-6090
• M. Yamashita, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 151 (1989). jva JVTAD6 0734-2101
• J. E. Foster, W. Wag, A. E. Wendt, J. Booske, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 532 (1998). jvb JVTBD9 0734-211X
• A. C. Vanderbecq, M. Wautelet, J. P. Dauchot, M. Hecq, A. M. Pointu, A. Ricard, J. Appl. Phys. 84, 100 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
• F. Guimaraes, J. B. Almeida, J. Bretagne, Plasma Sources Sci. Technol. 2, 138 (1993). pst PSTEEU 0963-0252
• R. Pintaske, T. Welzel, M. Schaller, N. Kahl, J. Hahn, F. Richter, Surf. Coat. Technol. 99, 266 (1998). sct SCTEEJ 0257-8972
• D. A. O. Hope, T. I. Cox, V. G. I. Deshmukh, Vacuum 37, 275 (1987). vac VACUAV 0042-207X
• J. Joo, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 23 (2000). jva JVTAD6 0734-2101
• C. Christou, K. F. Chiu, Z. H. Barber, Vacuum 58, 250 (2000). vac VACUAV 0042-207X
• J. Borkowska-Burnecka and W. Zyrnicki, Spectrosc. Lett. 30, 701 (1997). spl SPLEBX 0038-7010
• F. Debal, M. Wautelet, J. P. Dauchot, M. Hecq, Appl. Spectrosc. 51, 1340 (1997). aps APSPA4 0003-7028
• M. F. Dony, A. Ricard, M. Wautelet, J. P. Dauchot, M. Hecq, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1890 (1997). jva JVTAD6 0734-2101
• NIST Atomic Spectra Database Lines Data, http://www.physics.nist.gov
• W. L. Wiese and J. R. Fuhr, J. Phys. Chem. Ref. Data 4, 263 (1975). jpr JPCRBU 0047-2689
• C. M. Ferreira, J. Loureiro, A. Ricard, J. Appl. Phys. 57, 82 (1985). jap JAPIAU 0021-8979
• M. A. Lennon, K. L. Bell, H. B. Gilbody, J. G. Hughes, A. E. Kingston, M. J. Murray, F. J. Smith, J. Phys. Chem. Ref. Data 17, 1285 (1988). jpr JPCRBU 0047-2689
• M. V. Malyshev, V. M. Donnelly, S. W. Downey, J. I. Colonell, N. Layadi, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 849 (2000); and references therein. jva JVTAD6 0734-2101
• F. Debal, M. Wautelet, J. Bretagne, J. P. Dauchot, M. Hecq, Plasma Sources Sci. Technol. 9, 152 (2000). pst PSTEEU 0963-0252
• A. Ricard, C. Nouvellon, S. Konstantinidis, J. P. Dauchot, M. Wautelet, M. Hecq, J. Vac. Sci. Technol. (submitted).