REACTIVE HIGH-POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING OF WO3: INFLUENCE OF THE PULSE PARAMETERS ON THE DISCHARGE AND FILM CHARACTERISTICS

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Poster (Scientific congresses and symposiums)

Hemberg, Axel; Konstantinidis, Stéphanos; Renaux, Fabian et al.

2011 • 6ème édition de la Matinée des Chercheurs (MDC 2011)

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https://hdl.handle.net/20.500.12907/6614

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Abstract :

[en] REACTIVE HIGH-POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING OF WO3: INFLUENCE OF THE PULSE PARAMETERS ON THE DISCHARGE AND FILM CHARACTERISTICS

Disciplines :

Mechanical engineering
Chemistry
Physics

Author, co-author :

Hemberg, Axel ; Université de Mons > Unités externes > Materia Nova ASBL

Konstantinidis, Stéphanos ; Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface

Renaux, Fabian

Dauchot, Jean-Pierre ; Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface

Snyders, Rony ; Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface

Language :

English

Title :

REACTIVE HIGH-POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING OF WO3: INFLUENCE OF THE PULSE PARAMETERS ON THE DISCHARGE AND FILM CHARACTERISTICS

Publication date :

22 March 2011

Number of pages :

Event name :

6ème édition de la Matinée des Chercheurs (MDC 2011)

Event place :

Mons, Belgium

Event date :

2011

Research unit :

S882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface

Research institute :

R400 - Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux

Available on ORBi UMONS :

since 30 January 2012

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