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https://hdl.handle.net/20.500.14094/90000676
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90000676 (fulltext)
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136 KB
15
メタデータ
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メタデータID
90000676
アクセス権
open access
出版タイプ
Version of Record
タイトル
Raman characterization of Ge distribution in individual Si1−xGex alloy nanowires
著者
Nishimura, Chiharu ; Imamura, Go ; Fujii, Minoru ; Kawashima, Takahiro ; Saitoh, Tohru ; Hayashi, Shinji
著者名
Nishimura, Chiharu
ニシムラ, チハル
著者名
Imamura, Go
イマムラ, ゴウ
著者ID
A1198
研究者ID
1000000273798
KUID
https://kuid-rm-web.ofc.kobe-u.ac.jp/search/detail?systemId=c329d986b41188dd520e17560c007669
著者名
Fujii, Minoru
藤井, 稔
フジイ, ミノル
所属機関名
工学研究科
著者名
Kawashima, Takahiro
カワシマ, タカヒロ
著者名
Saitoh, Tohru
サイトウ, トオル
著者名
Hayashi, Shinji
ハヤシ, シンジ
収録物名
Applied Physics Letters
巻(号)
93(20)
ページ
203101-203101
出版者
American Institute of Physics (AIP)
刊行日
2008-11
公開日
2009-01-26
カテゴリ
工学研究科
学術雑誌論文
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資源タイプ
journal article
言語
English (英語)
ISSN
0003-6951
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eISSN
1077-3118
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関連情報
DOI
https://doi.org/10.1063/1.3028027
URI
http://apl.aip.org/apl/
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