Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT
Zur Ablage hinzufügen
  Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Freigegeben
Poster

Temperature induced faceted hole formation in epitaxial Al thin films on sapphire

MPG-Autoren
/persons/resource/persons136321

Hieke,  Stefan Werner
Nanoanalytics and Interfaces, Independent Max Planck Research Groups, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75388

Dehm,  Gerhard
Structure and Nano-/ Micromechanics of Materials, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76047

Scheu,  Christina
Nanoanalytics and Interfaces, Independent Max Planck Research Groups, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

Externe Ressourcen
Es sind keine externen Ressourcen hinterlegt
Volltexte (beschränkter Zugriff)
Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.
Volltexte (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Volltexte in PuRe verfügbar
Ergänzendes Material (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar
Zitation

Hieke, S. W., Dehm, G., & Scheu, C. (2015). Temperature induced faceted hole formation in epitaxial Al thin films on sapphire. Poster presented at 8th International Conference on High Temperature Capillarity (HTC-2015), Bad Herrenalb, Germany.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-13BF-7
Zusammenfassung
Es ist keine Zusammenfassung verfügbar