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＜Book＞
高品質極薄Si系絶縁膜の低温形成と機能評価に関する研究
コウヒンシツ ゴクウス Siケイ ゼツエンマク ノ テイオン ケイセイ ト キノウ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
| Responsibility | 研究代表者中島寛 |
|---|---|
| Series | 科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書 |
| Material Type | Book |
| Publisher | [福岡] : [九州大学] |
| Year | 1999.2 |
| Language | Japanese,English |
| Size | 67p ; 30cm |
Holdings
| Status | Volume | Location | Call No. | Printed | Collection Name | Barcode No. | Comments | Reserve | Copy | Automatic archive |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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Central Library ASRS | 科研報告書/九州大学/09650363 | 1999 |
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003121999004897 |
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Bibliographic details
| Other titles | title page title:平成9年度〜平成10年度科学研究費補助金(基盤研究C(2))研究成果報告書(研究課題番号09650363) |
|---|---|
| Authors | 中島, 寛 <ナカシマ, ヒロシ> |
| ID | 1000181437 |
| NCID | BA42694908 |
| Created Date | 2009.09.11 |
| Modified Date | 2011.10.07 |