ダウンロード数: 0
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
| タイトル: | High-speed processing with Cl-2 cluster ion beam |
| 著者: | Seki, T.    https://orcid.org/0000-0002-0834-1657 (unconfirmed)Aoki, T. https://orcid.org/0000-0002-5926-4903 (unconfirmed)Matsuo, J. https://orcid.org/0000-0003-0684-3677 (unconfirmed) |
| キーワード: | Cluster Ion beam Sputtering yield Reactive etching Cl-2 |
| 発行日: | 2009 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS |
| 巻: | 267 |
| 号: | 8-9 |
| 開始ページ: | 1444 |
| 終了ページ: | 1446 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/108961 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.nimb.2009.01.069 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。