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タイトル: Study on Solution-Based Formation of Device-Element Thin Films at Low Temperatures
その他のタイトル: 溶液プロセスによるデバイス用薄膜の低温成膜に関する研究
著者: Piao, Jinchun
著者名の別形: 朴, 今春
キーワード: Solution process
Alq3
SiOx
mist CVD
thin films
発行日: 24-Sep-2012
出版者: 京都大学 (Kyoto University)
学位授与大学: 京都大学
学位の種類: 新制・課程博士
取得分野: 博士(工学)
報告番号: 甲第17161号
学位記番号: 工博第3651号
学位授与年月日: 2012-09-24
請求記号: 新制||工||1554(附属図書館)
整理番号: 29900
研究科・専攻: 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
論文調査委員: (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 教授 川上 養一
学位授与の要件: 学位規則第4条第1項該当
著作権等: 許諾条件により要旨・本文は2013-04-01に公開
DOI: 10.14989/doctor.k17161
URI: http://hdl.handle.net/2433/161017
出現コレクション:090 博士(工学)

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