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ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
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ykogk03651.pdf | Abstract_要旨 | 162.42 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
D_Piao_Jinchun.pdf | Dissertation_全文 | 2.66 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
タイトル: | Study on Solution-Based Formation of Device-Element Thin Films at Low Temperatures |
その他のタイトル: | 溶液プロセスによるデバイス用薄膜の低温成膜に関する研究 |
著者: | Piao, Jinchun |
著者名の別形: | 朴, 今春 |
キーワード: | Solution process Alq3 SiOx mist CVD thin films |
発行日: | 24-Sep-2012 |
出版者: | 京都大学 (Kyoto University) |
学位授与大学: | 京都大学 |
学位の種類: | 新制・課程博士 |
取得分野: | 博士(工学) |
報告番号: | 甲第17161号 |
学位記番号: | 工博第3651号 |
学位授与年月日: | 2012-09-24 |
請求記号: | 新制||工||1554(附属図書館) |
整理番号: | 29900 |
研究科・専攻: | 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 |
論文調査委員: | (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 教授 川上 養一 |
学位授与の要件: | 学位規則第4条第1項該当 |
著作権等: | 許諾条件により要旨・本文は2013-04-01に公開 |
DOI: | 10.14989/doctor.k17161 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/161017 |
出現コレクション: | 090 博士(工学) |
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