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タイトル: Low-concentration deep traps in 4H-SiC grown with high growth rate by chemical vapor deposition
著者: Danno, K
Hashimoto, K
Saitoh, H
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Matsunami, H
キーワード: SiC
epitaxial growth
high purity
deep level
carrier lifetime
発行日: 2004
出版者: INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS
巻: 43
号: 7B
開始ページ: L969
終了ページ: L971
URI: http://hdl.handle.net/2433/3337
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.43.L969
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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