Impedance spectroscopy on thin (d ≈ 4 nm) tantalum oxide films

Bruder, K.; Hassel, A. W.; Mildner, B.; Diesing, D.

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Zur Ablage hinzufügen

Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Freigegeben

Vortrag

Impedance spectroscopy on thin (d ≈ 4 nm) tantalum oxide films

MPG-Autoren

/persons/resource/persons125070

Bruder, K.
Electrochemistry and Corrosion, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

/persons/resource/persons125170

Hassel, A. W.
Electrochemistry and Corrosion, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

Externe Ressourcen

Es sind keine externen Ressourcen hinterlegt

Volltexte (beschränkter Zugriff)

Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.

Volltexte (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Volltexte in PuRe verfügbar

Ergänzendes Material (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar

Zitation

Bruder, K., Hassel, A. W., Mildner, B., & Diesing, D. (2007). Impedance spectroscopy on thin (d ≈ 4 nm) tantalum oxide films. Talk presented at EIS 2007, 7th International Symposium on Electrochemical Impedance Spectroscopy. Argelès-sur-Mer, France. 2007-06-03 - 2007-06-08.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-527A-9

Zusammenfassung

Es ist keine Zusammenfassung verfügbar