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Effect of bias voltage on microstructure and optical properties of Al2O3 thin films prepared by twin targets reactive high power impulse magnetron sputtering

MPG-Autoren
/persons/resource/persons110024

Mutzke,  A.
Stellarator Theory (ST), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Zhou, G., Wang, L., Wang, X., Yu, Y., & Mutzke, A. (2019). Effect of bias voltage on microstructure and optical properties of Al2O3 thin films prepared by twin targets reactive high power impulse magnetron sputtering. Vacuum, 166, 88-96. doi:10.1016/j.vacuum.2019.04.060.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0003-ADFA-1
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